第044章 给老杨上眼药
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仓耀祖对于光刻技术的发展还是很了解的,无论是沉浸式光刻,还是极紫外光刻EUV,不过,仓耀祖手里没人啊。看来得去忽悠忽悠老杨。给老杨上上眼药。
说到光刻技术,还不能不提英特尔,那句Intel Pentium inside的广告很牛逼啊,给电脑一颗奔腾的芯,嘿嘿,不行,还得和英特尔捣捣乱。
仓耀祖直接找上了老杨的办公室,并不是杨崇山,他只能算小杨,老杨是清大的校长杨斯正,然后直接开撩,不对,是聊:“老杨啊,不用二十年,国内的半导体进口数值肯定会突破5000亿华夏元的规模,全球半导体产值最少会突破3万亿华夏元,这么大的盘子,咱们不能拱手让人啊,这么大的蛋糕,咱们要是只能看着却吃不着,你们清大就是国家的罪人啊。”
“你就不是罪人吗?”
“我当然不是了,我可不是搞半导体的。”
“好吧,你确实不是搞半导体的。可是光刻机这一块儿可不好搞啊。人家有先发优势的,现在是市场经济,大家都是利益为先。我们这边研究出来一代光刻机,人家就把比我们更强更便宜的光刻机卖进国内来了,他们是良性循环,咱们是恶性循环。研发就陷入了无水之源,投入不起啊。企业们也都抱着造不如买,买不如租的思想,根本不想投入研发啊。”
“老杨啊,你知道温水煮青蛙吗?咱华夏就是这只青蛙啊,等到光刻机的研发彻底断档断代,人家不卖给你了呢,不但机器不卖给你,芯片都不卖给你了呢,你应该知道,冷战啊,贸易战啊,局部战争啊,这些发生的概率是100%的,到时候,断炊的那些企业会不会戳你们清大以及华科院的脊梁骨骂娘啊。”
“到那时候啊,我都退休了,说不定还入土了,骂也骂不到我的头上。”
“呵呵,就算你听不到,也会把你挂在历史的耻辱柱上。趋利避害确实是企业的市场本能,可国家能和企业一样的思维吗?大学能和企业一样的思维吗?这么发展下去,咱们华夏的半导体行业就会变成一头只知道耕地的牛,鼻环却握在别人的手里,你说这事儿吓人不?”
“别和我说这些大道理了,我懂得比你多,你小子就和我说怎么办吧,我知道你这是又要搞事情了,来,来,我老杨等着,等着你拿钱砸死我。”
“美死你,凭什么我拿钱啊,我拿得起吗我?那5千亿,上万亿的市场又不给我,我犯不上,正所谓在其位谋其政,我既不是国家领导,又不是清大校长,让我拿钱?我拿不着啊。我啊,今天就是给你出出主意,好让你啊以后的几十年能过得问心无愧。”
“好,好,你说吧,只要你的主意有用,我就是去求爷爷告奶奶,去作揖下跪,我都去把钱弄来。”
“用不着,你们那么多校友呢,你看燕邮募集来多少钱了啊,你们这体量,不可能募集不来一些资金啊,先启动了再说呗,后面有国家有银行呢。要打破这个怪圈,只有两个办法,一个是国家死命砸钱根本不管怎么亏,亏一年能亏出去个5000亿吗?亏不了。这样集中力量办大事,发动能发动的一切力量,不按套路出牌,超速发展,一举追上他们。第二个办法就是等,等领先者遇到瓶颈了,他们有个坎儿很难迈过去,而你又咬紧牙关砸钱亏钱追,肯定能追上。”
“你说得轻巧,国家现在哪儿哪儿都是窟窿,哪儿哪儿都要发展,半导体这个行业不是靠投入就能投出来的。你第二个办法更不靠谱。”
“第一个办法要有力度,最大的力度。第二个办法还真就靠谱,他们马上就要碰到坎儿了。业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点,而157nm将成为主流技术。然而,157nm光刻技术遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战。这是由于绝大多数材料都会强烈地吸收157nm的光波,所以这个就是他们的坎儿。”
“你仔细和我说说。”
“现在国外几家大厂都是使用DUV,也就是深紫外光,通过氟化氪KrF 准分子激光来产生波长248 nm的光,这种光刻机是现在的主流,他们实验室里现在已经基本研发完了通过氟化氩ArF准分子激光来产生波长193 nm光波的下一代光刻机,193nm光刻机没问题。但用F2准分子激光产生波长157nm的光就是个大坑了,他们过不去了,技术解决不了。瓶颈出现了,咱们追赶的机会来了。”
“那他们的解决办法是什么?”
“研发EUV光刻机,也就是极紫外光刻技术。极紫外光刻使用波长在13.5nm的软X射线来光刻,相当于用了一把更小、更锋利的‘刀’。极紫外光刻是5nm等更先进制程的必需工艺。但因为EUV不能穿透透镜,只能用特殊的反射镜来对焦,这样EUV的能量损失会很大,需要更长的曝光时间,会严重影响生产速度,这也就是EUV光刻机难以大规模量产的原因。因此我确信EUV光刻技术15年内完成不了原型机,20年内量产无望。”
“你确定?”
“我十分确定一定以及肯定。我了解到的信息是荷兰阿斯麦公司会联合花旗国的几家企业攻坚EUV这个难题,不带咱们玩,当然,他们也不代表日系厂商玩。尼康和佳能会死磕157nm光刻机,这个是死路一条,等到他们衰落下去了咱们可以联合他们在国内建厂,吸收他们的技术以后,再一起研发EUV光刻机,7nm以下的制程,DUV光刻机就不行了。”
“等等,你说DUV光刻不能达到7nm以下?那你的意思是说DUV光刻能突破65nm,甚至28nm、14nm直至7nm?”
“不错,能,甚至14nm,7nm都可以,但比较麻烦。”
“怎么做?你怎么研究的?”
“怎么研究的你就别管了。我接下来说的话你谁都不能说,包括在网络上,你看我特意找你办公室来聊,连icq都不用,你就知道问题的严重性了。”
“有必要这么谨慎吗?”
“当然有必要啦。此前,芯片制造工艺的更新换代是以3年为一个周期,但Intel率先将这个周期缩短为2年。Intel公司在1995年实现了0.35微米工艺量产,1997年他们会推出0.25微米产品,1999年就是0.18微米工艺,到了2001年则实现0.13微米产品的量产。英特尔在忠实地践行着摩尔定律啊。”
“两年一个更新换代,这是要弄死AMD啊。”
“这才好啊,这样咱们就可以拉拢AMD,对抗intel了啊。不过呢,这只可能是一个幻想罢了,英特尔、AMD和微软之间肯定是有默契的,他们会联合起来搞死其他所有人,然后他们自己再慢慢玩,但英特尔和AMD谁也不会被玩死,否则他们就涉嫌垄断了。”
仓耀祖对于光刻技术的发展还是很了解的,无论是沉浸式光刻,还是极紫外光刻EUV,不过,仓耀祖手里没人啊。看来得去忽悠忽悠老杨。给老杨上上眼药。
说到光刻技术,还不能不提英特尔,那句Intel Pentium inside的广告很牛逼啊,给电脑一颗奔腾的芯,嘿嘿,不行,还得和英特尔捣捣乱。
仓耀祖直接找上了老杨的办公室,并不是杨崇山,他只能算小杨,老杨是清大的校长杨斯正,然后直接开撩,不对,是聊:“老杨啊,不用二十年,国内的半导体进口数值肯定会突破5000亿华夏元的规模,全球半导体产值最少会突破3万亿华夏元,这么大的盘子,咱们不能拱手让人啊,这么大的蛋糕,咱们要是只能看着却吃不着,你们清大就是国家的罪人啊。”
“你就不是罪人吗?”
“我当然不是了,我可不是搞半导体的。”
“好吧,你确实不是搞半导体的。可是光刻机这一块儿可不好搞啊。人家有先发优势的,现在是市场经济,大家都是利益为先。我们这边研究出来一代光刻机,人家就把比我们更强更便宜的光刻机卖进国内来了,他们是良性循环,咱们是恶性循环。研发就陷入了无水之源,投入不起啊。企业们也都抱着造不如买,买不如租的思想,根本不想投入研发啊。”
“老杨啊,你知道温水煮青蛙吗?咱华夏就是这只青蛙啊,等到光刻机的研发彻底断档断代,人家不卖给你了呢,不但机器不卖给你,芯片都不卖给你了呢,你应该知道,冷战啊,贸易战啊,局部战争啊,这些发生的概率是100%的,到时候,断炊的那些企业会不会戳你们清大以及华科院的脊梁骨骂娘啊。”
“到那时候啊,我都退休了,说不定还入土了,骂也骂不到我的头上。”
“呵呵,就算你听不到,也会把你挂在历史的耻辱柱上。趋利避害确实是企业的市场本能,可国家能和企业一样的思维吗?大学能和企业一样的思维吗?这么发展下去,咱们华夏的半导体行业就会变成一头只知道耕地的牛,鼻环却握在别人的手里,你说这事儿吓人不?”
“别和我说这些大道理了,我懂得比你多,你小子就和我说怎么办吧,我知道你这是又要搞事情了,来,来,我老杨等着,等着你拿钱砸死我。”
“美死你,凭什么我拿钱啊,我拿得起吗我?那5千亿,上万亿的市场又不给我,我犯不上,正所谓在其位谋其政,我既不是国家领导,又不是清大校长,让我拿钱?我拿不着啊。我啊,今天就是给你出出主意,好让你啊以后的几十年能过得问心无愧。”
“好,好,你说吧,只要你的主意有用,我就是去求爷爷告奶奶,去作揖下跪,我都去把钱弄来。”
“用不着,你们那么多校友呢,你看燕邮募集来多少钱了啊,你们这体量,不可能募集不来一些资金啊,先启动了再说呗,后面有国家有银行呢。要打破这个怪圈,只有两个办法,一个是国家死命砸钱根本不管怎么亏,亏一年能亏出去个5000亿吗?亏不了。这样集中力量办大事,发动能发动的一切力量,不按套路出牌,超速发展,一举追上他们。第二个办法就是等,等领先者遇到瓶颈了,他们有个坎儿很难迈过去,而你又咬紧牙关砸钱亏钱追,肯定能追上。”
“你说得轻巧,国家现在哪儿哪儿都是窟窿,哪儿哪儿都要发展,半导体这个行业不是靠投入就能投出来的。你第二个办法更不靠谱。”
“第一个办法要有力度,最大的力度。第二个办法还真就靠谱,他们马上就要碰到坎儿了。业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点,而157nm将成为主流技术。然而,157nm光刻技术遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战。这是由于绝大多数材料都会强烈地吸收157nm的光波,所以这个就是他们的坎儿。”
“你仔细和我说说。”
“现在国外几家大厂都是使用DUV,也就是深紫外光,通过氟化氪KrF 准分子激光来产生波长248 nm的光,这种光刻机是现在的主流,他们实验室里现在已经基本研发完了通过氟化氩ArF准分子激光来产生波长193 nm光波的下一代光刻机,193nm光刻机没问题。但用F2准分子激光产生波长157nm的光就是个大坑了,他们过不去了,技术解决不了。瓶颈出现了,咱们追赶的机会来了。”
“那他们的解决办法是什么?”
“研发EUV光刻机,也就是极紫外光刻技术。极紫外光刻使用波长在13.5nm的软X射线来光刻,相当于用了一把更小、更锋利的‘刀’。极紫外光刻是5nm等更先进制程的必需工艺。但因为EUV不能穿透透镜,只能用特殊的反射镜来对焦,这样EUV的能量损失会很大,需要更长的曝光时间,会严重影响生产速度,这也就是EUV光刻机难以大规模量产的原因。因此我确信EUV光刻技术15年内完成不了原型机,20年内量产无望。”
“你确定?”
“我十分确定一定以及肯定。我了解到的信息是荷兰阿斯麦公司会联合花旗国的几家企业攻坚EUV这个难题,不带咱们玩,当然,他们也不代表日系厂商玩。尼康和佳能会死磕157nm光刻机,这个是死路一条,等到他们衰落下去了咱们可以联合他们在国内建厂,吸收他们的技术以后,再一起研发EUV光刻机,7nm以下的制程,DUV光刻机就不行了。”
“等等,你说DUV光刻不能达到7nm以下?那你的意思是说DUV光刻能突破65nm,甚至28nm、14nm直至7nm?”
“不错,能,甚至14nm,7nm都可以,但比较麻烦。”
“怎么做?你怎么研究的?”
“怎么研究的你就别管了。我接下来说的话你谁都不能说,包括在网络上,你看我特意找你办公室来聊,连icq都不用,你就知道问题的严重性了。”
“有必要这么谨慎吗?”
“当然有必要啦。此前,芯片制造工艺的更新换代是以3年为一个周期,但Intel率先将这个周期缩短为2年。Intel公司在1995年实现了0.35微米工艺量产,1997年他们会推出0.25微米产品,1999年就是0.18微米工艺,到了2001年则实现0.13微米产品的量产。英特尔在忠实地践行着摩尔定律啊。”
“两年一个更新换代,这是要弄死AMD啊。”
“这才好啊,这样咱们就可以拉拢AMD,对抗intel了啊。不过呢,这只可能是一个幻想罢了,英特尔、AMD和微软之间肯定是有默契的,他们会联合起来搞死其他所有人,然后他们自己再慢慢玩,但英特尔和AMD谁也不会被玩死,否则他们就涉嫌垄断了。”